Дополнительное оборудование для электронных микроскопов (СЭМ): Системы и СЭМ-приставки для электронной литографии, приставка электронной литографии для СЭМ, напольная система для прямой электронно-лучевой литографии
Напольная система Melytec EBL-100 представляет собой высокопроизводительное высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии (EBL). Ключевые особенности: термополевой источник электронов…
Система генерации шаблонов Melytec EBL-30 представляет собой высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии, специально разработанное для интеграции со сканирующим электронным микроско…
Приходите с образцами в демозал или запросите онлайн-демонстрацию работы оборудования.
